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GD90-RF射频辉光放电质谱仪

产品时间:2019-09-11

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  • GD90-RF射频辉光放电质谱仪
    GDMS技术使原子化(碎片化)过程与离子化过程分开进行,故而可容易的对ppb至ppt级别的痕量杂质进行测量。此法还使得GDMS技术拥有最小的基体效应且无须特定参照材料。它可对金属与合金进行全扫描分析,可对半导体进行整体的测量分析,可对多层结构与镀层进行深度剖析。是包括金属、合金、半导体以及绝缘体等高纯材料的生产与质量控制的理想工具。
    GD90-RF射频辉光放电质谱仪主要由三部分构成:辉光放电离子源、质量分析器、检测器。另外还包括一些辅助系统,如真空系统、离子光学系统、电学系统和数据采集控制系统等。而GD90-RF射频辉光放电质谱仪具有灵活的双离子源系统:直流源(DC)和射频源(RF)。GD90-RF离子源包含直流源和射频源,切换简单方便,可以直接分析不同尺寸的块状、针状及粉末样品。高电离阈值材料离子源室,有效避免电离时带来的污染。
    GD90-RF射频辉光放电质谱仪的主要特性:
    1、对块状、针状或粉末状的导体或非导体样品进行直接分析;
    2、高分辨率,特别是对于有干扰离子存在的测定而言十分重要;
    3、广泛的元素涵盖范围,软件中包括70个元素相关的干扰离子数据;
    4、由于原子化和离子化过程发生在不同区域,带来可忽略的基体效应;
    5、低至亚ppb级的检测限;
    6、具有深度剖析能力;
    7、最少的样品制备过程。
     

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